Huvudmeny

2012-11-15 16:50

Svenskt mode i New York


Svensk Form höll på tisdagen den 13 november seminariet ”H&M, Acne and much more” på Fashion Institute of Technology i New York, som diskuterade olika aspekter av den svenska modescenen. På plats fanns Katrin Tijburg från Textilhögskolan som en del av forskningsstudien ”Internationell tillväxt i modeföretag”.

Panelen bestod av en rad viktiga representanter från både amerikansk och svensk modebransch, bland annat Margareta van den Bosch, Creative Advisor på H&M; Mikael Schiller, grundare för ACNE Studios och Lena Patriksson Keller, ordförande för Association of Swedish Fashion Brands och grundare av Patriksson Communication.
– Det var kul att se att intresset är så stort för svenskt mode i New York, säger Katrin Tijburg om att seminariet var fullsatt med 150 personer.  

Seminariet var en del av satsningen SWEDISH FASHION GOES NEW YORK. Ett samarbete mellan Svenska Institutet, Svensk Form och Sveriges Generalkonsulat i New York.  


Bild på publiken under seminariet ”H&M, Acne and much more”  på Fashion Institute of Technology i New York.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2012-11-15_svensktmodeNY_panel

Text: Therese Rosenblad
Foto: Katrin Tijburg